涂膠顯影設備。涂膠顯影設備為半導體設備的細分品類,位于半導體產(chǎn)業(yè)鏈的上游(支撐 產(chǎn)業(yè)),涂膠顯影設備既用于半導體晶圓制造(光刻環(huán)節(jié)),也用于半導體封測(涂膠、顯 影環(huán)節(jié))、OLED 制造(光刻環(huán)節(jié))。2019 年中國主要涂膠顯影設備供應商中,東京電子處 于壟斷地位,市占率高達 91%,其次為日本迪恩士(市占率 5%)和中資企業(yè)芯源微(4%)。 遠期空間:若國產(chǎn)化率從4%提升至9%(+5pct),中資涂膠顯影設備企業(yè)5年(2021-2025E) 年化營收增速有望達到 46%;中期空間:根據(jù) Wind 一致預期,涂膠顯影設備龍頭三年 (2021-2023E)年化營收增速有望達 63%。
驅動力層面,1)半導體產(chǎn)業(yè)鏈規(guī)模擴張帶動涂膠顯影設備需求,2)AR/VR 產(chǎn)業(yè)鏈規(guī)模擴 張,帶動 OLED(尤其是硅基 OLED)及其上游涂膠顯影設備的需求。3)國產(chǎn)化率提升。
碳化硅。碳化硅為半導體制造材料中襯底材料的一種,與氮化鎵等并稱為第三代半導體材 料,位于半導體產(chǎn)業(yè)鏈的上游(支撐產(chǎn)業(yè))。與第一、二代硅基半導體材料的差異是,第三 代半導體材料能較大提高能量轉換效率。以光伏逆變器為例,根據(jù)芯源微招股書,傳統(tǒng)硅 基逆變器成本約占系統(tǒng)總成本的 10%,卻是系統(tǒng)能量損耗的主要來源之一,使用碳化硅 MOSFET 或碳化硅 MOSFET 與碳化硅 SBD 結合的功率模塊的光伏逆變器,轉換效率可從 96 %提升至 99%以上,能量損耗降低 50%以上,設備循環(huán)壽命提升 50 倍。
2018 年全球主要導電型碳化硅供應商中,科瑞 CREE 處于絕對領先地位,市占率高達 62%, 其次為貳陸 II-VI(市占率 16%)和羅姆子公司 SiCrystal(12%),國內(nèi)廠商僅天科合達(1.7%) 和天岳先進(0.5%)兩家進入全球前列。遠期空間:若國產(chǎn)化率從 2%提升至 7%(+5pct), 中資碳化硅企業(yè) 5 年(2021-2025E)年化營收增速有望達到 60%。
驅動力層面,1)半導體產(chǎn)業(yè)鏈規(guī)模擴張帶動襯底材料需求,2)為追求更高的能量轉換效 率,第三代半導體材料在功率器件中的滲透率有望逐步提升,3)國產(chǎn)化率提升。
光刻膠。光刻膠為半導體制造材料中的核心部分,位于半導體產(chǎn)業(yè)鏈的上游(支撐產(chǎn)業(yè)), 其下游除半導體外,還包括 PCB、LCD 等。光刻膠屬于高技術壁壘材料,生產(chǎn)工藝復雜, 純度要求高,需要長期 Know-how 積累,根據(jù)前瞻研究院 2018 年數(shù)據(jù),半導體光刻膠領域, 市場份額基本被日本(Tok、JSR 等)和美國企業(yè)(杜邦等)瓜分,中國在部分細分工藝上 (G/I 線半導體光刻膠)實現(xiàn)約 10%的國產(chǎn)化率水平,已經(jīng)量產(chǎn)的產(chǎn)能基本集中在晶瑞股份 和北京科華(彤程新材參股)兩家,整體產(chǎn)能與世界先進水平仍有 2-3 代的差距,國產(chǎn)替 代之路任重道遠。遠期空間:若國產(chǎn)化率從 10%提升至 15%(+5pct),中資光刻膠企業(yè) 5 年(2021-2025E)年化營收增速有望達到 31%。中期空間:根據(jù) Wind 一致預期,光刻膠 龍頭三年(2021-2023E)年化營收增速有望達 32%。
CMP 拋光液。CMP 拋光液為半導體制造材料中 CMP 拋光材料的重要組成,位于半導體產(chǎn) 業(yè)鏈的上游(支撐產(chǎn)業(yè))。2018 年中國主要 CMP 拋光液供應商中,卡博特處于絕對領先地 位,市占率達 39%,中資企業(yè)僅安集科技一家進入主要供應商,市占率為 13%。遠期空間: 若國產(chǎn)化率從 13%提升至 18%(+5pct),中資 CMP 拋光液企業(yè) 5 年(2021-2025E)年化 營收增速有望達到 27%;中期空間:根據(jù) Wind 一致預期,中資 CMP 拋光液龍頭三年 (2021-2023E)年化營收增速有望達 36%。
EDA 軟件。EDA(Electronic Design Automation,電子設計自動化)是指利用計算機軟件 完成大規(guī)模集成電路的設計、仿真、驗證等流程的設計方式,位于半導體產(chǎn)業(yè)鏈上游(支 撐產(chǎn)業(yè)),也是工業(yè)軟件的一大重要門類。2020 年中國主要 EDA 軟件供應商中,楷登電子 Cadence、新思科技 Synopsys、西門子 EDA 外資三巨頭處于第一梯隊,三者合計市占率 高達 78%,中資企業(yè)中,華大九天(市占率 6%)、概倫電子(2%)、思爾芯(2%)進入主 要供應商行列。遠期空間:若國產(chǎn)化率從 12%提升至 17%(+5pct),中資 EDA 軟件企業(yè) 5 年(2021-2025E)年化營收增速有望達到 28%。
驅動力方面,全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈市場規(guī)模的擴張、國產(chǎn)化率的提升外,EDA 軟件市場規(guī)模 增長的推動力還包括:摩爾定律驅動下芯片復雜度提升帶來的設計工具算力需求增加、晶 圓工藝制程提升對制造類工具要求增加、先進封裝技術創(chuàng)新帶來的 EDA 工具應用需求提升、 產(chǎn)權保護力度的增加等。