圖4：使用8種處理流中的2種，以比較不同基帶濾波器對解調(diào)器性能的影響。
在本例中，使用兩種不同的處理設(shè)置(每個(gè)流各對應(yīng)一個(gè))對1GHz、8-PSK信號實(shí)施RF下變頻和解調(diào)。除了下變頻后使用的基帶濾波器，兩種過程基本上是相同的。流1(圖4左側(cè))采用500MHz高斯濾波器；而流2(圖中右側(cè))使用40MHz的根升余弦濾波器。眼圖和狀態(tài)轉(zhuǎn)換圖的并排對比顯示使視覺分析相當(dāng)容易，而測量參數(shù)則提供定量數(shù)據(jù)。
在狀態(tài)轉(zhuǎn)換圖中比較狀態(tài)矢量的離差(dispersion)表明：流2的濾波器產(chǎn)生更緊密的分組。并且比較EVM參數(shù)測量值，流1的EVM為5.8％，流2的EVM表現(xiàn)更好，為1.3％。眼圖還顯示了流2的濾波器配置可產(chǎn)生更寬的開口。
結(jié)論
在示波器上處理、顯示、測量和分析矢量調(diào)制信號的能力是一種強(qiáng)大的工具。使用矢量調(diào)制信號時(shí)要考慮的關(guān)鍵特性包括：用于確定信號矢量幅度精度的星座和狀態(tài)轉(zhuǎn)換圖；用于驗(yàn)證頻率內(nèi)容的相位和頻譜視圖；以及用于確認(rèn)信號完整性的眼圖。具有對RF載波進(jìn)行解調(diào)并提取基底I和Q信號分量的能力，使這些工具相得益彰。
