日前，國產超精密儀器行業(yè)喜傳捷報，哈工大宣布成功研發(fā)“高速超精密激光干涉儀”，該項自主研發(fā)的創(chuàng)新成果，現(xiàn)已成功應用于我國350nm至28nm多個工藝節(jié)點的光刻機樣機集成研制和性能測試領域，為我國光刻機等高端裝備發(fā)展提供了關鍵技術支撐和重要測量手段。

打破關鍵技術壁壘，助力芯片裝備發(fā)展

哈爾濱工業(yè)大學儀器科學與工程學院在高精度激光穩(wěn)頻、光學非線性誤差精準抑制、高速高分辨力干涉信號處理等多項關鍵技術方面實現(xiàn)重大突破，成功研制系列超精密高速激光干涉儀。這一超精密高速激光干涉儀，正是應用于高性能光刻機的平面光柵激光干涉儀。至此，國產DUV光刻機又一道關鍵技術終被攻克，由此打破高性能光刻機關鍵技術壁壘。

該激光干涉儀激光真空波長相對準確度最高達0.96納米，位移分辨力為0.077nm，光學非線性誤差最低為13pm，最大測量速度為5.37m/s。目前，該系列干涉儀已成功應用于我國350nm至28nm多個工藝節(jié)點的光刻機樣機集成研制和性能測試領域，一舉填補了國內在該領域長期的技術空白，為我國光刻機等高端裝備發(fā)展提供了關鍵技術支撐和重要測量手段。

據(jù)稱，該項創(chuàng)新成果可為我國7nm及以下節(jié)點光刻機研發(fā)提供重要的共性技術儲備，高速超精密激光干涉儀設備的技術突破，將助力國產高性能光刻機等芯片制造高端裝備發(fā)展。

平面光柵激光干涉儀是高性能光刻機的核心部件，為具備亞納米測量精度的超精密測量設備。在光刻機上主要用于測量光刻機鏡頭、掩膜版、雙工件臺等重要部件的精確位置信息，是保障高性能光刻機加工精度的關鍵部件。

自主研發(fā)創(chuàng)新成果，達到國際先進水平

“高速超精密激光干涉儀”，由哈爾濱工業(yè)大學儀器科學與工程學院胡鵬程教授團隊研制，榮獲中國光學工程學會主辦的首屆“金燧獎”金獎?！敖痨莳劇?，旨在面向國家重大戰(zhàn)略需求，突出創(chuàng)新主體地位，促進關鍵核心技術攻關，突破“卡脖子”技術難題，重點評選出我國自主研發(fā)、制造、生產的高端光電儀器，為助力我國自主研發(fā)的科學儀器搶占科技制高點、樹立民族品牌自信、展現(xiàn)自主核心競爭力創(chuàng)造新的機遇。

譚久彬院士指導的胡鵬程教授團隊專注于高速超精密激光干涉儀研發(fā)，以解決制約我國高端裝備發(fā)展和量子化計量基準等前沿研究的“卡脖子”問題。該團隊突破系列核心測量方法和工程化關鍵技術，解決了該領域存在的“測不準”、“測不精”、“測不快”的核心難題，共獲授權發(fā)明專利113項（其中國際專利6項），制定相關標準2項。

在此基礎上，該團隊研制了HUE-D/S/X系列高速超精密激光干涉儀并進行小批量生產，經(jīng)3位院士等專家鑒定，儀器整體技術達到國際先進水平，3項關鍵技術處于國際領先。